掃描電鏡通過電子束掃描樣品表面，收集并分析樣品與電子束相互作用產(chǎn)生的信號，從而實(shí)現(xiàn)對樣品形貌的測量。以下是SEM掃描電鏡測量形貌的主要步驟和方法：

樣品制備：首先，需要將待測樣品進(jìn)行適當(dāng)?shù)闹苽?，如切割、拋光、涂覆?dǎo)電層等，以確保樣品可以在SEM中清晰成像。

電子束掃描：掃描電鏡通過電子槍產(chǎn)生高能電子束，電磁透鏡將電子束聚焦成納米級的細(xì)小探針，掃描線圈控制電子束在樣品表面上的掃描，由點(diǎn)到行，由行到面，覆蓋整個(gè)樣品區(qū)域。

信號收集：當(dāng)電子束掃描到樣品表面時(shí)，會與樣品發(fā)生相互作用，產(chǎn)生各種信號，如二次電子、背散射電子、特征X射線等。其中，二次電子是SEM掃描電鏡成像的主要信號源，其強(qiáng)度與樣品表面形貌密切相關(guān)。

圖像處理：探測器接收并轉(zhuǎn)換這些信號為電信號，經(jīng)過放大和處理后，在顯示器上生成圖像。這個(gè)圖像就是樣品表面的形貌圖。

形貌測量：在獲得的形貌圖上，可以使用圖像處理軟件進(jìn)行各種測量。例如，可以使用標(biāo)尺或已知尺寸的參考物體作為比例尺，在圖像中測量感興趣的尺寸，如長度、寬度、直徑等。此外，還可以通過線掃描和輪廓測量來測量邊緣的形狀、凹凸等參數(shù)。

三維重建：如果需要更詳細(xì)地了解樣品的形貌特征，可以通過獲取多個(gè)不同角度或焦平面的SEM圖像，并使用三維重建軟件生成樣品的三維模型。這個(gè)模型可以用于測量樣品的體積、表面形貌、孔隙度等參數(shù)。

總的來說，掃描電鏡通過電子束掃描樣品表面并收集分析產(chǎn)生的信號來測量樣品的形貌。這種方法具有高分辨率、高放大倍數(shù)、高靈敏度等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。